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氮化锆靶材ZrN磁控溅射靶材
产品介绍 氮化锆（ZrN）不溶于水，微溶于无机酸。化合物随着成份的变化而有多种晶体结构，它们不但具有优异的化学性质，不仅可以用在Josephson结，扩散式迭层，低温度计等，还可以使用在三维集成电线圈，金属基晶体
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2021-09-29 |
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氧化铟靶材In2O3磁控溅射靶材
产品介绍氧化铟（In2O3）为白色或淡黄色无定型粉末，加热转变为红褐色；是一种新的n型透明半导体功能材料，具有较宽的禁带宽度、较小的电阻率和较高的催化活性，在光电领域、气体传感器、催化剂方面得到了广泛应用。
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2021-09-29 |
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氧化铁靶材Fe2O3磁控溅射靶材
产品介绍氧化铁（Fe2O3）是铁锈的主要成分，易溶于强酸，中强酸，外观为红棕色粉末；用于油漆、油墨、橡胶等工业中，可做催化剂，玻璃、宝石、金属的抛光剂，可用作炼铁原料。最大的应用是作为颜料来使用，用于油漆
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2021-09-29 |
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氧化铪靶材HfO2磁控溅射靶材
产品介绍氧化铪（HfO2）常温常压下为白色固体，熔点：2758℃，沸点：5400℃，密度：9.68g/cm³，难溶于水，常温常压下稳定，避免与酸接触；当加热到高温时铪与氧直接化合生成氧化铪；也可通过其硫酸盐或草酸盐经灼烧
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2021-09-29 |
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氧化镓靶材Ga2O3磁控溅射靶材
产品介绍氧化镓（Ga2O3）别名是三氧化二镓，是一种宽禁带半导体，Eg=4.9eV；不溶于水，微溶于热酸或碱溶液，易溶于碱金属氢氧化物和稀无机酸；有α，β两种变体，α型为白色菱形六面体，熔点：1900℃(在600℃时转化
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2021-09-29 |
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硼靶材B靶材磁控溅射靶材
产品介绍 硼（B）不溶于水，粉末状的硼能溶于沸硝酸和硫酸，以及大多数熔融的金属（如：铜、铁、锰、铝和钙），常温时能与氟反应，不受盐酸和氢氟酸水溶液的腐蚀；硼为黑色或深棕色，硬度仅次于金刚石，质地较脆，在
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2021-09-29 |
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碳化钒靶材VC磁控溅射靶材
产品介绍碳化钒（VC）为黑色立方晶体，比石英略硬，熔点：2810℃，沸点：3900℃。可由五氧化二钒用焦炭还原制得。主要用于制造钒钢，可用作碳化物硬质合金添加剂。产品参数中文名 碳化钒 分子式 VC分子量 62.95沸点
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2021-09-29 |
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碳化锆靶材ZrC磁控溅射靶材
产品介绍碳化锆（ZrC）为暗灰色有金属光泽的立方晶体，熔点高，硬度大，性脆，熔点：3540℃，沸点：5100℃；不溶于冷水和盐酸，可溶于含有硝酸或双氧水的氢氟酸和热浓硫酸；高温下与氯气反应生成四氯化锆；700℃时，
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2021-09-28 |
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